- 磁控濺射鍍膜儀
- 培育鉆石
- 熱蒸發鍍膜儀
- 涂布機
- 可編程勻膠機
- PECVD氣相沉積系統
- 二合一鍍膜儀
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 等離子鍍膜儀
- 熱解噴涂
- 電子束,激光鍍膜儀
- 等離子清洗機
- CVD氣相沉積系統
- 多弧離子鍍膜儀
- 金剛石切割機
- 真空管式爐
- 立式管式爐
- 晶體生長爐
- 旋轉管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 快速退火爐
- 石墨烯制備
- 高溫熔煉爐
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 二硫化鉬制備
- 混料機設備
- 真空手套箱
- 粉末壓片機
- 真空熱壓機
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- UV光固機
- 注射泵
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 氣體分析儀
- 提拉涂膜機
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 其他產品

這些發生器利用質子交換膜從去離子水中產生氫氣。隨后使用微量干燥器塊來干燥氣體。
精密氫氣發生器標配各種**功能,讓您在實驗室中完全放心,是一種更**、可靠和更方便的鋼瓶氣體替代品。
適用于標準檢測限的火焰氣體
精密氫氣發生器標配各種**功能,讓您在實驗室中完全放心,是一種更**、可靠和更方便的鋼瓶氣體替代品。
氫氣流量高達1200 cc/min,通過級聯多個設備 可獲得更高的流速
純度99.99999%,由英國國家物理實驗室(NPL) 獨立驗證和測試
先進的**功能,包括自動泄漏檢測和自動關機
經驗證的質子交換膜技術,可按需產生高純度的
氫氣
水凈化裝置:
礦物水或自來水不可直接用于氫氣發生器,需要使用ASTM II型(<1 ?s/cm / >1 MW/cm)的去離 子水。Peak可提供經過測試和驗證的水凈化裝置,完全可滿足Precision氫氣發生器的要求。
水瓶:
建議在發生器前端使用水瓶為系統提供去離子水。專用的水瓶可以防止**和藻類的生長,以
*高質量的水源,生產*高純度的氫氣,獲得*佳品質的鉆石。
氫氣探測器:
為了更安心,可以采購氫氣探測器來監測系統中可能會出現的任何泄漏。若監測到嚴重泄漏,
發生器會立即關機停止運行。
型號
Hydrogen 1200cc CVD
*大流量
1200 cc/min
*大壓力
100 psi / 6.9 bar
純度
99.99999%
露點
-75 °C / -103 °F
氣體出口
1/8英寸Swagelok卡套接頭 (提供1/4英寸轉接
水質要求
<1.0μs/cm 或 >1 MO/cm
耗水量
up to 2.1 L/day
工作溫度
10°C - 35°C / 50°F - 95°F
電氣要求
110 / 230 V 50 / 60 HZ 2.3 - 4.8 A
功耗
787 Watts
熱輸出
up to 1000 BTU/ hr
尺寸 (WxDxH)
406 x 380 x 540 mm / 16 x 15 x 21.3’’
重量
38 Kg (83.8 lbs)
噪音水平
靜音
**的CVD鉆石培育用氫氣
Precision Hydrogen Trace 1200cc
3301768
去離子水凈化系統
20-3000
8L水瓶
10-9017
水凈化裝置
20-3000
技術參數: